A concentração de HFC-23 na atmosfera está a crescer para níveis recorde apesar de as emissões globais terem sido alegadamente eliminadas em 2017, porque apesar de ter poucas aplicações industriais, é libertado durante a produção de outro químico usado em sistemas de refrigeração em países como a China e Índia.

Em 2015, ambas as nações, responsáveis pelas maiores emissões de HFC-23, anunciaram que iriam diminuir as emissões nas fábricas que produzem o gás, objetivo que afirmaram ter praticamente cumprido em 2017.

Os cientistas esperavam ver uma descida significativa da concentração do gás na atmosfera, mas a investigação de uma equipa internacional levou à descoberta de concentrações recorde em 2018.

“Este potente gás com efeito de estufa tem estado a aumentar na atmosfera há décadas e o aumento deveria ter parado quase totalmente no espaço de dois ou três anos, o que teria sido uma grande vitória para o clima”, afirmou o especialista em Química Atmosférica Matt Rigby, da Universidade de Bristol.

A razão para o aumento das emissões globais não é clara e o aumento poderá ter implicações no Protocolo de Montreal, o acordo internacional que visa proteger a camada de ozono na estratosfera.

Em 2016, os países aderentes ao Protocolo fizeram uma emenda em que se aponta para a redução do impacto climático dos hidrofluorocarbonetos, comprometendo-se a destruir esse tipo de gases.

“Embora a China e a Índia não tenham assinado a emenda, as suas anunciadas reduções deviam tê-los colocado em linha com os seus objetivos. Mas parece que ainda há trabalho a fazer”, segundo o principal autor do estudo, Kieran Stanley.

“Na nossa investigação, descobrimos que é muito provável que a China não tenha tido tanto sucesso na redução de emissões de HFC-23 como anunciou. No entanto, sem mais medições, com modelos e dados regionais, não podemos ter a certeza se a Índia conseguiu aplicar o seu programa de redução de emissões”, afirmou.

Uma tonelada deste gás emitido para a atmosfera é equivalente a 12.000 toneladas de dióxido de carbono.